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M系列光束笔尖阵列光刻系统

简介︰

聚合物笔无掩模光刻纳米制造系统(polymer pen lithography)聚合物笔纳米无掩模光刻制造系统PPL, 使用可达160000笔尖的阵列,采用蘸笔光刻DPN的方式,将待沉积的材料(墨水)浸蘸在笔尖阵列上,笔尖可控的与基底表面接触,从而在基底表面批量成型所需图案,加工纳米微米图案无需光掩膜,且在平方厘米范围内达到200纳米以下的分辨率,可应用于纳米粒子合成,蛋白阵列,单细胞排布,纳米电路构造、生物芯片、化学检测、微尺度催化反应、分子马达等领域。此设备在国际上属于首个基于聚合物笔光刻(PPL)技术的纳米制造系统,PPL技术是美国Tera-print公司独有的技术。

产品概述和特点

主要特点

- 高分辨率,可达低于100nm的分辨率;

- 高通量模式,可达160000针尖输出制作结构;

- TERA-FAB M系列可制作厘米级材料尺寸;

- 无需掩模,即时性改变输出机构,可广泛适应软质和硬质材料;

- 软硬件友好,非专业人士可在几小时培训后,熟练使用。

 

A)一张4英寸的PPL阵列,有1100万支笔尖。

B)阵列内纳米尺度弹性材料尖端的扫描电子显微照片及内嵌图像;

C)由PPL技术打印的多种蛋白示意图。各针尖阵列蘸上不同的打印墨水(蛋白);

D)荧光光学显微图的结果,PPL合成了多路荧光标记蛋白的图案。

 

 

 

 

 

 

技术参数
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